R&D 소개

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'비에이치는 미래를 준비하는 선행 연구개발 조직으로
끊임없는 노력과 투자를 통해 새로운 가치 창출을 주도해 나가고 있습니다.'

비에이치의 연구개발자들은 선도적인 기술력으로 신제품 개발/양산에 특화되어 있으며,
비에이치의 제품 및 서비스 향상을 위해 노력하고 있습니다.

Via Hole
Technology

Fine Pattern
Technology

Surface Insulation
Technology

ACF 신뢰성

자동타발기 개발

Landless
Technology

Micro LED
Technology

Stretchable FPCB
Technology

Via Hole Technology
  • 다양한 층간 도통 기술력을 통하여 배선의 고집적화, 신호 손실 최소화, 열 신뢰성 향상 실현
  • 각각의 제품군마다 맞춤형 기술 제안 가능
Normal
Mechanical Drill Normal Plating Laser Via hole Normal Plating Laser Via & Via on Via Via Fill Plating
  • Hole Size
    -. Min : 0.1Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 4 ▼
  • Hole Size
    -. Min : 0.08Φ
  • Aspect Ratio
    -. 85% ▼
  • Hole Size
    -. Min : 0.1Φ
  • Aspect Ratio
    -. 85% ▼
Special
Though Hole Via Filling Ultra Micro Via Normal & Via Filling
  • Hole Size
    -. Min : 0.08 ~ 0.15Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 1 ~3 內
  • Hole Size
    -. Min : 0.025Φ ~ 0.050Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 2.5 ▼
Normal
Mechanical Drill Normal Plating
  • Hole Size
    -. Min : 0.1Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 4 ▼
Laser Via hole Normal Plating
  • Hole Size
    -. Min : 0.08Φ
  • Aspect Ratio
    -. 85% ▼
Laser Via & Via on Via Via Fill Plating
  • Hole Size
    -. Min : 0.1Φ
  • Aspect Ratio
    -. 85% ▼
Special
Though Hole Via Filling
  • Hole Size
    -. Min : 0.08 ~ 0.15Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 1 ~3 內
Ultra Micro Via Normal & Via Filling
  • Hole Size
    -. Min : 0.025Φ ~ 0.050Φ
  • Aspect Ratio
    -. 1 : 2.5 ▼

※ Aspect Ratio